目前X 射線測量技術(shù)主要采用電離室作為射線檢測部件，其檢測原理是通過射線進(jìn)入電離室產(chǎn)生氣體電離，通過對電離后的離子對加壓，產(chǎn)生弱電流信號(hào)（10^-9～10^-11A），然后將弱電流信號(hào)轉(zhuǎn)換成電壓信號(hào)，并進(jìn)行數(shù)據(jù)的轉(zhuǎn)換和處理。由于X 射線是連續(xù)譜，要求測量X 射線的電離室對整個(gè)能譜范圍內(nèi)的X 射線進(jìn)行有效的檢測，應(yīng)用在傳統(tǒng)放射性同位素測量設(shè)備上的電離室只需要對特定能量的射線進(jìn)行有效檢測。隨著現(xiàn)代生產(chǎn)工藝對產(chǎn)品檢測和控制精度要求的提高，要求電離室的尺寸減小，而檢測效率提高，對電離室的制造工藝提出了更高的要求。